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三價(jià)黑鉻

三價(jià)黑鉻

三價(jià)?鉻

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

三價(jià)?鉻電鍍?藝,所沉積的鍍層同樣是純?屬鉻,故仍具?屬鉻的特性,如硬度?、耐磨性及耐蝕性俱佳等,其鍍液以三價(jià)鉻化合物提供?屬鉻的來(lái)源,并以低?屬鉻含量操作,是新型環(huán)保產(chǎn)品,不含六價(jià)鉻,廢?處理簡(jiǎn)單。電鍍時(shí)斷電不會(huì)有不良后果,沉積速度較六價(jià)鉻快。

1、鍍液組成及操作條件:

1. 操作條件 最佳值 控制范圍

2. 開(kāi)缸鹽 310/ 300-320 /

3. 鉻鹽 120/ 110-130 /

4. 穩(wěn)定劑 120 毫升/ 100-120毫升/

5. ?鉻發(fā)?劑 1 號(hào) 20毫升/ 10-30 毫升/

6. 發(fā)?劑 2號(hào) 10 毫升/ 1030毫升/

7. 增?劑 20毫升/ 15-35 毫升/

8. ?位劑 40 毫升/ 30-45 毫升/

9. WA 濕潤(rùn)劑 4毫升/ 3-5毫升/

10. ? 35毫升/ 30-40 毫升/

11. ?屬鉻(分析值) 22 /公升 20-24 /

12. PH 2.8 2.6-3.0

5045-55

? 26 26-27

陰極電流密度 10A/dm2

5-20A/dm2

陽(yáng)極材料 專?陽(yáng)極(進(jìn)??墨碳板)

過(guò) 連續(xù)過(guò)濾

輕微空?攪拌

鈦、鐵佛?

陽(yáng)極?積?陰極?積 1.5-2? 1

沉積速度 0.16-0.3um/分鐘

霍?槽打?條件: 6A、3分鐘、40攪拌、?位與六價(jià)鉻相似。

2、設(shè)備要求:

A)鍍 槽:PVC、ABS、聚?烯襯槽;

B)陽(yáng) 極:采?專?陽(yáng)極及鈦鉤;

C)溫度控制:采?鈦加熱管及鈦冷卻管裝置;

D)整流器:12-15V,提供直流電,為使鍍液穩(wěn)定建議配置安培?時(shí)積累計(jì)。

3、鍍液:本公司新開(kāi)好的?作液,將其先加熱? 75-80,再降到 55

4、原料的功能及控制:

 

A)對(duì)鍍液的控制需要在安培?時(shí)內(nèi)對(duì)電鍍液中各成份的數(shù)量、?重、酸堿度和溫度進(jìn)?

調(diào)控。為取得最佳電鍍性能,每個(gè)輪班?少需對(duì)?鉻的各種原料補(bǔ)充添加?次,如?作

載重?于 0.75安培/公升時(shí)補(bǔ)充次數(shù)應(yīng)該更頻繁,定期分析鍍液各成份及按照安培?時(shí)

消耗補(bǔ)充?鉻的各種原料,對(duì)?鉻?藝的穩(wěn)定性?分重要。建議使??作?志記錄?產(chǎn)

線的安培分鐘?量、?重值、PH 值、溫度及?鉻的各種原料補(bǔ)充資料,帶?消耗可根

據(jù)?重值 26-28玻美調(diào)節(jié);

BCS 開(kāi)缸鹽:?于提?鍍液的?重及提供鉻離?,最佳值為 26,每提??個(gè)單位

需加 25-30/ CS 開(kāi)缸鹽,濃度過(guò)?會(huì)引起鍍液結(jié)晶,使陽(yáng)極鈍化及打?管出現(xiàn)

堵塞,濃度太低時(shí),會(huì)影響鍍液導(dǎo)電性能;

CCM ?鉻鹽:補(bǔ)充鍍液所消耗的鉻離?,補(bǔ)充量為 400-500 /千安培?時(shí)。由于

鉻鹽的溶解度較低,加?時(shí)須緩慢地逐少量加?,加? 7-8/升的 CM 鉻鹽,可

提? 1 /升的鉻含量;

DST 穩(wěn)定劑:含有 ST 穩(wěn)定劑和 GLH ?鉻發(fā)?劑,消耗量為 2000-2500

毫升/千安培?時(shí);

EGLH ?鉻添加劑:調(diào)整鍍層?澤均勻度。 消耗量為 20-50毫升/千安培?時(shí);

FGLH 發(fā)?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí);

GGLH 增?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí);

HCL ?位劑:可增?電流密度范圍。消耗量為 500-1000毫升/千安培?時(shí);

IWA 濕潤(rùn)劑:能提??位,消耗量為 80毫升/千安培?時(shí);

HPH 值:可?鹽酸或濃氨?調(diào)整 PH 值,每加? 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1;每

加? 2 毫升/升濃氨?鍍液 PH 值提? 0.1,加?鹽酸或氨?之后需攪拌 2-4 ?時(shí)才可? PH

機(jī)測(cè)試鍍液的 PH 值,PH 過(guò)?三價(jià)鉻會(huì)沉淀;

I)溫 度:太低有沉淀析出,太?嚴(yán)重影響鍍層覆蓋能?。

① 鍍液的特殊性:平時(shí)?產(chǎn)?作溫度控制在 45-55,可以經(jīng)常性?炭芯過(guò)濾鍍液,

不影響?產(chǎn)。加料或處理缸最好加溫? 60以上保溫 2 ?時(shí)再降?正常溫度。?般連

續(xù)?產(chǎn) 2-3天需要選擇時(shí)間對(duì)鍍液進(jìn)?加溫,使各組份絡(luò)合的更好;

② ?產(chǎn)中請(qǐng)按安培?時(shí)添加,并填寫記錄表。

 5、?屬雜質(zhì)控制及影響:

① 當(dāng)三價(jià)?鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等?屬雜質(zhì)污染時(shí),鍍層的?澤及外觀會(huì)受

到某程度影響。?屬雜質(zhì)含量較?時(shí),鍍層?澤發(fā)灰。含量嚴(yán)重過(guò)多時(shí),鍍層?澤不均,

會(huì)出現(xiàn)?條紋或?斑等情況。鍍液的帶?及?件從掛具上掉?槽中溶掉是?屬雜質(zhì)的主

要來(lái)源;

② 定期清缸,清理掉進(jìn)缸底的?件,可有效防??屬雜質(zhì)對(duì)三價(jià)?鉻鍍層?澤的影響。?部份?屬雜質(zhì)如鋅、鐵及鎳,可?低電流電解清除,或可加除雜? 1號(hào)掩蔽。銅雜質(zhì)

?較敏感,需加?除雜? 2號(hào),然后加強(qiáng)過(guò)濾并做電解處理,即可清除;

③ 當(dāng)鍍液受銅污染時(shí),?、中電流區(qū)灰,隨著銅雜質(zhì)濃度的增加,鍍層發(fā)?;

④ 鍍液受鎳污染時(shí),中電流區(qū)會(huì)出現(xiàn)??鍍層,當(dāng)鍍液同時(shí)含有鐵雜質(zhì)時(shí)低電流密度

區(qū)會(huì)呈??;

⑤ 鍍液受鉛離?污染時(shí),低電流會(huì)出現(xiàn)?斑,鍍液的深鍍能?較差,含量過(guò)?時(shí),?

電流密度區(qū)鍍層結(jié)合?下降。采?電解的?法可去除鉛的污染。

6、產(chǎn)品?錄:

★ ?鉻?作液 ★

1. 開(kāi)缸鹽

2.

3. 穩(wěn)定劑

4. ?鉻添加劑

5. 發(fā)?劑

6. 增?劑

7. ?位劑

8. 濕潤(rùn)劑

9. 除雜? 1 號(hào)(鎳)

10. 除雜? 2 號(hào)(銅)

11. 專?陽(yáng)極(?墨碳板)

7、三價(jià)?鉻電鍍與傳統(tǒng)六價(jià)鉻電鍍的?較:

A)覆蓋能?強(qiáng),電流范圍?闊,?電位燒焦現(xiàn)象減少,可掛較多數(shù)量的?件,不需沖擊

電鍍,可像酸銅、鎳般循環(huán)電鍍;

B)分散能?極佳,電鍍速度極快,厚度分布更均勻;

C)不像六價(jià)鉻電鍍?nèi)菀桩a(chǎn)??漬;

D)此?藝采?專??墨陽(yáng)極,陽(yáng)極使?壽命?,使鍍液免受鉛污染;

E)電鍍時(shí)使?的電流密度低,節(jié)省電?能源的消耗;

F)鍍層不含六價(jià)鉻痕漬,符合 ROHS 標(biāo)準(zhǔn);

G)環(huán)保,不會(huì)對(duì)空?產(chǎn)?污染,?廢?處理更簡(jiǎn)易;

H)安全操作,對(duì)從業(yè)?員的健康有保障。

8、電鍍故障及處理:

 

處 理

 

鍍層有??斑紋

1、?屬鉛污染

1、扯?處理及排查鉛污染來(lái)源


2、前處理不良

2、加強(qiáng)前處理

鍍層發(fā)

1PH 值?

1、?鹽酸調(diào)整 PH


2、?重低

2、補(bǔ)加 CS 開(kāi)缸鹽


3、鍍鎳前鍍層清潔不?凈

3、清洗澈底


4、鍍鉻前?件過(guò)于?燥

4、保持?件微濕

鍍層發(fā)藍(lán)、起彩

1、GLH ?鉻發(fā)?劑多

1、減少?鉻添加劑?量

?電位燒

1、溫度低

1、提?鍍液溫度

結(jié)合?差

1、鎳層鈍化

1、鉻預(yù)浸時(shí)受六價(jià)鉻污染,排查


2、鉛雜質(zhì)污染

 2、扯?處理及排查鉛污染來(lái)源


3、在鎳出?處雙極化

3、較正雙極化


4、在鉻??處雙極化

4、較正雙極化

?位差

1、PH 偏低

1、?氨?調(diào)整 PH


2、?重偏低

2、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽


3、打?過(guò)快

3、減?打?


4、CL ?位劑少

4、補(bǔ)加 CL ?位劑


5、WA 濕潤(rùn)劑少

5、補(bǔ)加 WA 濕潤(rùn)劑

沉積速度慢

1、PH 偏?

1、?鹽酸調(diào)整 PH


2、攪拌慢

2、提?攪拌速度


3、?重低

3、添加 CS 開(kāi)缸鹽


4、鉻離?偏低

4、補(bǔ)加 CM 鉻鹽

缸邊有結(jié)晶

1、溫度過(guò)低

1、對(duì)鍍液加溫


2、?重太?

2、稀釋鍍液

鍍層偏?

1、?鉻 CL ?位劑少

1、補(bǔ)充 CL ?位劑


2、?重偏低

2、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽

淺?鍍層

1、溫度過(guò)?

2PH 值過(guò)低

1、降低鍍液溫度

2、?氨?調(diào)整 PH


3、?重偏低

3、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽


4、CL ?位劑多

4、減少 CL ?位劑的添加

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