三價(jià)?鉻
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
三價(jià)?鉻電鍍?藝,所沉積的鍍層同樣是純?屬鉻,故仍具?屬鉻的特性,如硬度?、耐磨性及耐蝕性俱佳等,其鍍液以三價(jià)鉻化合物提供?屬鉻的來(lái)源,并以低?屬鉻含量操作,是新型環(huán)保產(chǎn)品,不含六價(jià)鉻,廢?處理簡(jiǎn)單。電鍍時(shí)斷電不會(huì)有不良后果,沉積速度較六價(jià)鉻快。
1、鍍液組成及操作條件:
1. 操作條件 最佳值 控制范圍
2. 開(kāi)缸鹽 310克/升 300-320 克/升
3. 鉻鹽 120克/升 110-130 克/升
4. 穩(wěn)定劑 120 毫升/升 100-120毫升/升
5. ?鉻發(fā)?劑 1 號(hào) 20毫升/升 10-30 毫升/升
6. 發(fā)?劑 2號(hào) 10 毫升/升 10-30毫升/升
7. 增?劑 20毫升/升 15-35 毫升/升
8. ?位劑 40 毫升/升 30-45 毫升/升
9. WA 濕潤(rùn)劑 4毫升/升 3-5毫升/升
10. 氨 ? 35毫升/升 30-40 毫升/升
11. ?屬鉻(分析值) 22 克/公升 20-24 克/升
12. PH 值 2.8 2.6-3.0
溫 度 50℃ 45-55℃
? 重 26 26-27
陰極電流密度 10A/dm2
5-20A/dm2
陽(yáng)極材料 專?陽(yáng)極(進(jìn)??墨碳板)
過(guò) 濾 連續(xù)過(guò)濾
攪 拌 輕微空?攪拌
加 熱 鈦、鐵佛?
陽(yáng)極?積?陰極?積 1.5-2? 1
沉積速度 0.16-0.3um/分鐘
霍?槽打?條件: 6A、3分鐘、40℃攪拌、?位與六價(jià)鉻相似。
2、設(shè)備要求:
A)鍍 槽:PVC、ABS、聚?烯襯槽;
B)陽(yáng) 極:采?專?陽(yáng)極及鈦鉤;
C)溫度控制:采?鈦加熱管及鈦冷卻管裝置;
D)整流器:12-15V,提供直流電,為使鍍液穩(wěn)定建議配置安培?時(shí)積累計(jì)。
3、鍍液:本公司新開(kāi)好的?作液,將其先加熱? 75-80℃,再降到 55℃
4、原料的功能及控制:
A)對(duì)鍍液的控制需要在安培?時(shí)內(nèi)對(duì)電鍍液中各成份的數(shù)量、?重、酸堿度和溫度進(jìn)?
調(diào)控。為取得最佳電鍍性能,每個(gè)輪班?少需對(duì)?鉻的各種原料補(bǔ)充添加?次,如?作
載重?于 0.75安培/公升時(shí)補(bǔ)充次數(shù)應(yīng)該更頻繁,定期分析鍍液各成份及按照安培?時(shí)
消耗補(bǔ)充?鉻的各種原料,對(duì)?鉻?藝的穩(wěn)定性?分重要。建議使??作?志記錄?產(chǎn)
線的安培分鐘?量、?重值、PH 值、溫度及?鉻的各種原料補(bǔ)充資料,帶?消耗可根
據(jù)?重值 26-28玻美調(diào)節(jié);
B)CS 開(kāi)缸鹽:?于提?鍍液的?重及提供鉻離?,最佳值為 26,每提??個(gè)單位
需加 25-30克/升 CS 開(kāi)缸鹽,濃度過(guò)?會(huì)引起鍍液結(jié)晶,使陽(yáng)極鈍化及打?管出現(xiàn)
堵塞,濃度太低時(shí),會(huì)影響鍍液導(dǎo)電性能;
C)CM ?鉻鹽:補(bǔ)充鍍液所消耗的鉻離?,補(bǔ)充量為 400-500 克/千安培?時(shí)。由于
鉻鹽的溶解度較低,加?時(shí)須緩慢地逐少量加?,加? 7-8克/升的 CM 鉻鹽,可
提? 1 克/升的鉻含量;
D)ST 穩(wěn)定劑:含有 ST 穩(wěn)定劑和 GLH ?鉻發(fā)?劑,消耗量為 2000-2500
毫升/千安培?時(shí);
E)GLH ?鉻添加劑:調(diào)整鍍層?澤均勻度。 消耗量為 20-50毫升/千安培?時(shí);
F)GLH 發(fā)?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí);
G)GLH 增?劑:起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí);
H)CL ?位劑:可增?電流密度范圍。消耗量為 500-1000毫升/千安培?時(shí);
I)WA 濕潤(rùn)劑:能提??位,消耗量為 80毫升/千安培?時(shí);
H)PH 值:可?鹽酸或濃氨?調(diào)整 PH 值,每加? 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1;每
加? 2 毫升/升濃氨?鍍液 PH 值提? 0.1,加?鹽酸或氨?之后需攪拌 2-4 ?時(shí)才可? PH
機(jī)測(cè)試鍍液的 PH 值,PH 過(guò)?三價(jià)鉻會(huì)沉淀;
I)溫 度:太低有沉淀析出,太?嚴(yán)重影響鍍層覆蓋能?。
① 鍍液的特殊性:平時(shí)?產(chǎn)?作溫度控制在 45-55℃,可以經(jīng)常性?炭芯過(guò)濾鍍液,
不影響?產(chǎn)。加料或處理缸最好加溫? 60℃以上保溫 2 ?時(shí)再降?正常溫度。?般連
續(xù)?產(chǎn) 2-3天需要選擇時(shí)間對(duì)鍍液進(jìn)?加溫,使各組份絡(luò)合的更好;
② ?產(chǎn)中請(qǐng)按安培?時(shí)添加,并填寫記錄表。
5、?屬雜質(zhì)控制及影響:
① 當(dāng)三價(jià)?鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等?屬雜質(zhì)污染時(shí),鍍層的?澤及外觀會(huì)受
到某程度影響。?屬雜質(zhì)含量較?時(shí),鍍層?澤發(fā)灰。含量嚴(yán)重過(guò)多時(shí),鍍層?澤不均,
會(huì)出現(xiàn)?條紋或?斑等情況。鍍液的帶?及?件從掛具上掉?槽中溶掉是?屬雜質(zhì)的主
要來(lái)源;
② 定期清缸,清理掉進(jìn)缸底的?件,可有效防??屬雜質(zhì)對(duì)三價(jià)?鉻鍍層?澤的影響。?部份?屬雜質(zhì)如鋅、鐵及鎳,可?低電流電解清除,或可加除雜? 1號(hào)掩蔽。銅雜質(zhì)
?較敏感,需加?除雜? 2號(hào),然后加強(qiáng)過(guò)濾并做電解處理,即可清除;
③ 當(dāng)鍍液受銅污染時(shí),?、中電流區(qū)灰,隨著銅雜質(zhì)濃度的增加,鍍層發(fā)?;
④ 鍍液受鎳污染時(shí),中電流區(qū)會(huì)出現(xiàn)??鍍層,當(dāng)鍍液同時(shí)含有鐵雜質(zhì)時(shí)低電流密度
區(qū)會(huì)呈??;
⑤ 鍍液受鉛離?污染時(shí),低電流會(huì)出現(xiàn)?斑,鍍液的深鍍能?較差,含量過(guò)?時(shí),?
電流密度區(qū)鍍層結(jié)合?下降。采?電解的?法可去除鉛的污染。
6、產(chǎn)品?錄:
★ ?鉻?作液 ★
1. 開(kāi)缸鹽
2. 鉻 鹽
3. 穩(wěn)定劑
4. ?鉻添加劑
5. 發(fā)?劑
6. 增?劑
7. ?位劑
8. 濕潤(rùn)劑
9. 除雜? 1 號(hào)(鎳)
10. 除雜? 2 號(hào)(銅)
11. 專?陽(yáng)極(?墨碳板)
7、三價(jià)?鉻電鍍與傳統(tǒng)六價(jià)鉻電鍍的?較:
A)覆蓋能?強(qiáng),電流范圍?闊,?電位燒焦現(xiàn)象減少,可掛較多數(shù)量的?件,不需沖擊
電鍍,可像酸銅、鎳般循環(huán)電鍍;
B)分散能?極佳,電鍍速度極快,厚度分布更均勻;
C)不像六價(jià)鉻電鍍?nèi)菀桩a(chǎn)??漬;
D)此?藝采?專??墨陽(yáng)極,陽(yáng)極使?壽命?,使鍍液免受鉛污染;
E)電鍍時(shí)使?的電流密度低,節(jié)省電?能源的消耗;
F)鍍層不含六價(jià)鉻痕漬,符合 ROHS 標(biāo)準(zhǔn);
G)環(huán)保,不會(huì)對(duì)空?產(chǎn)?污染,?廢?處理更簡(jiǎn)易;
H)安全操作,對(duì)從業(yè)?員的健康有保障。
8、電鍍故障及處理:
故 障 | 原 因
| 處 理
|
鍍層有??斑紋 | 1、?屬鉛污染 | 1、扯?處理及排查鉛污染來(lái)源 |
2、前處理不良 | 2、加強(qiáng)前處理 | |
鍍層發(fā)白 | 1、PH 值? | 1、?鹽酸調(diào)整 PH 值 |
2、?重低 | 2、補(bǔ)加 CS 開(kāi)缸鹽 | |
3、鍍鎳前鍍層清潔不?凈 | 3、清洗澈底 | |
4、鍍鉻前?件過(guò)于?燥 | 4、保持?件微濕 | |
鍍層發(fā)藍(lán)、起彩 | 1、GLH ?鉻發(fā)?劑多 | 1、減少?鉻添加劑?量 |
?電位燒 | 1、溫度低 | 1、提?鍍液溫度 |
結(jié)合?差 | 1、鎳層鈍化 | 1、鉻預(yù)浸時(shí)受六價(jià)鉻污染,排查 |
2、鉛雜質(zhì)污染 | 2、扯?處理及排查鉛污染來(lái)源 | |
3、在鎳出?處雙極化 | 3、較正雙極化 | |
4、在鉻??處雙極化 | 4、較正雙極化 | |
?位差 | 1、PH 偏低 | 1、?氨?調(diào)整 PH 值 |
2、?重偏低 | 2、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
3、打?過(guò)快 | 3、減?打? | |
4、CL ?位劑少 | 4、補(bǔ)加 CL ?位劑 | |
5、WA 濕潤(rùn)劑少 | 5、補(bǔ)加 WA 濕潤(rùn)劑 | |
沉積速度慢 | 1、PH 偏? | 1、?鹽酸調(diào)整 PH 值 |
2、攪拌慢 | 2、提?攪拌速度 | |
3、?重低 | 3、添加 CS 開(kāi)缸鹽 | |
4、鉻離?偏低 | 4、補(bǔ)加 CM 鉻鹽 | |
缸邊有結(jié)晶 | 1、溫度過(guò)低 | 1、對(duì)鍍液加溫 |
2、?重太? | 2、稀釋鍍液 | |
鍍層偏? | 1、?鉻 CL ?位劑少 | 1、補(bǔ)充 CL ?位劑 |
2、?重偏低 | 2、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
淺?鍍層 | 1、溫度過(guò)? 2、PH 值過(guò)低 | 1、降低鍍液溫度 2、?氨?調(diào)整 PH 值 |
3、?重偏低 | 3、補(bǔ)充 CS 開(kāi)缸鹽 | |
4、CL ?位劑多 | 4、減少 CL ?位劑的添加 |
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